KRI 离子源应用于超高真空磁控溅镀设备
2023-08-0918
上海伯东美国 KRI 考夫曼离子源简介
2023-08-0952
KRI 离子源应用于磁控共溅镀设备 Co-sputter
2023-08-0922
KRI 离子源应用于电子束蒸镀设备
2023-08-0932
KRI 射频离子源应用于多层膜磁控溅镀设备
2023-08-0923
KRI 考夫曼射频离子源 RFICP220 制备富硅SiNx薄膜
2023-07-3121
KRI 考夫曼射频离子源 RFICP140 溅射多层沉积 Nb3Sn 超导薄膜
2023-07-3118
KRI 考夫曼射频离子源 RFICP380 溅射沉积 NSN70 隔热膜
2023-07-3138
KRI 考夫曼射频离子源 RFICP380 辅助磁控溅射 WS2 薄膜
2023-07-3121
KRI 考夫曼射频离子源 RFICP220 制备 YIG 薄膜
2023-07-3123
KRI 考夫曼射频离子源 RFICP140 溅射沉积铝锰合金薄膜
2023-07-3141
KRI 考夫曼射频离子源 RFICP220 辅助溅射沉积 MnZn 铁氧体薄膜
2023-07-3120
KRI 考夫曼射频离子源 RFICP380 辅助磁控溅射制 TiSiN-Ag 薄膜
2023-07-3135
KRI 考夫曼射频离子源 RFICP220 溅射沉积 Ir 膜
2023-07-3116
KRI 考夫曼射频离子源 RFICP140 溅射沉积 Ti-B-C 薄膜
2023-07-3120
KRI 离子源应用于金属热蒸镀设备
2023-07-2731
KRi 射频离子源应用于车载摄像头镜片镀膜工艺
2023-07-2719
KRi 大尺寸射频离子源树脂镜片高性能 AR 工艺
2023-07-2734
KRi 射频离子源应用于红外截止滤光片 IRCF 工艺
2023-07-2724
KRi 离子源应用于蓝玻璃 AR工艺
2023-07-2728